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中微公司新推出用于蓝绿光mini-LED生产的MOCVD新型装备!

类别:企业动态发表于:2021-12-27 14:19
关键字:中微 MOCVD

摘要:近日,第七届国际第三代半导体论坛暨第十八届中国国际半导体照明论坛(IFWS&SSLCHINA2021)在深圳成功召开。会上,中微半导体设备(上海)股份有限公司MOCVD工艺技术总监胡建正分享了“中微Prismo UniMax® - 用于蓝绿光mini-LED生产的MOCVD新型装备”的新进展。

文章转载自:材料观察


近日,第七届国际第三代半导体论坛暨第十八届中国国际半导体照明论坛(IFWS&SSLCHINA2021)在深圳成功召开。在“SSLCHINA 2021:Mini/Micro-LED技术产业应用论坛”上,由广东中民工业技术创新研究院有限公司、中微半导体设备(上海)股份有限公司、佛山市国星光电股份有限公司 、北京康美特科技股份有限公司联合协办支持。福州大学严群教授和南京大学电子科学与工程学院副院长刘斌教授主持该分会。


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▲中微半导体设备(上海)股份有限公司MOCVD工艺技术总监 胡建正


会上,中微半导体设备(上海)股份有限公司MOCVD工艺技术总监胡建正分享了“中微Prismo UniMax® - 用于蓝绿光mini-LED生产的MOCVD新型装备”的新进展。


胡建正介绍,Mini/micro-LEDs在高端显示应用方面具有高对比度、高动态范围、轻薄、低能耗等优点,近年来正受到越来越多的关注。中微公司开发的 Prismo 系列MOCVD设备可广泛应用于生产基于III族氮化物的各类器件,包括蓝绿光LED、深紫外LED以及功率器件。与用于照明的传统LED相比,mini/micro-LED对外延片的波长均匀性和颗粒数量有更严苛的要求。需要开发新型MOCVD平台以提高外延片的波长均匀性、降低颗粒数量,从而实现mini/micro-LED的商业化应用。


目前,中微新开发的可用于mini-LED生产的MOCVD 平台 - Prismo UniMax®, 通过局部温场精细调控与流场的优化,在4”和6”衬底上生长的蓝绿光LED实现了极好的波长均匀性。在41×4” 配置条件下,得到了极好的蓝光LED片内和片间波长均匀性,分别为0.71 nm和0.87 nm(1σ);在10×6” 配置条件下,其蓝光LED片内波长均匀性达到0.84 nm (1σ),100mm×100mm方片波长最大最小差值低至2.4 nm。对于平均波长为530nm的6寸绿光LED,实现了片内波长均匀性1.04 nm(1σ),100mm×100mm方片波长最大最小差值仅为4.6nm。


此外,Prismo UniMax®在LED生产中,还可以实现优越的整体波长良率和炉与炉的重复性。同时,会上还讲解了更多设备细节及工艺细节。更多详情可咨询下方中微公司电话!

来源:CASMITA NEWS

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